據介紹，首批重大科技專項為：一是釩鈦稀土重大科技專項；二是軌道交通重大科技專項；三是集成電路與新型顯示重大科技專項。
其中，集成電路與新型顯示重大科技專項圍繞集成電路、新型顯示兩大領域，布局14項重大攻關任務，著力研發15個重大創新產品，突破36項關鍵核心技術。新型顯示支持方向和重點如下：
全面屏柔性AMOLED顯示技術研究
（1）研究內容。面向柔性AMOLED全面屏超高屏占比、無開口屏下攝像功能等需求，開展柔性AMOLED面板多種像素密度混合驅動設計、研制工藝和測試技術研究；研究攝像頭對應區域高像素密度、高MDL透過率、高亮度和高壽命顯示等關鍵技術，相關指標滿足產業化要求。
（2）考核指標。突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，形成全面屏產品2~3個。技術成果應用于新一代屏下攝像手機，形成真正意義上的全面屏。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過1000萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。
高畫質低功耗可折疊柔性AMOLED顯示技術研究
（1）研究內容。開展柔性AMOLED超薄堆疊結構仿真與設計，降低功耗的同時不影響顯示畫質；研究開發超薄可彎折高折射率材料，滿足厚度需求與信賴性測試標準；開展彎折堆疊設計研究，通過優化堆疊設計，避免EES結構與現有堆疊發生分層、斷裂等。研發可折疊柔性AMOLED顯示產品，其彎曲半徑、功耗、顯示MDL反射率和厚度、常溫動態彎折、溫濕度條件動態彎折等技術指標性能優異。
（2）考核指標。突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，形成產品2-3個。技術成果應用于高分辨率超薄柔性折疊終端屏，支持大尺寸柔性顯示終端制造。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過1000萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。
8K激光移軸變焦投影關鍵技術研究
（1）研究內容。開展基于振鏡組合DLP芯片的方案設計，縮小光學系統體積；研究移軸鏡頭技術，實現影像位置電動調整；突破鏡頭自動調焦技術，解決調整后不同位置畫質和解析度變差的問題；突破振鏡自動相機優化技術，實現振鏡參數最優化，確保像質最佳。研發高解析、高亮度、高色域8K激光移軸長焦投影顯示產品。
（2）考核指標。突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，形成產品2~3個。技術成果應用于激光投影顯示生產企業，并實現批量化生產。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過560萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。
超低散斑激光顯示光學屏技術研究
（1）研究內容。研究激光顯示中復合散斑的自相關特性和功率譜分布，建立復合散斑模型和實驗方法，突破光學屏領域散斑抑制技術；建立光學屏融合架構的光學仿真、光利用效率的評價體系和測試方法，為行業提供更高效評價標準，促進行業技術升級；研究基于微納結構的表面光整形技術，突破現有光擴散技術的能量利用極限，提升屏幕的光利用效率，實現光機小型化、節能化的環保需求；開展基于粒子的光散射、吸收和輻射模型研究，實現更優異的光散射分布，達到超清與均勻畫質的視覺效果。
（2）考核指標。突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，制定行業標準1項，形成產品2~3個。大尺寸高分辨率激光投影顯示屏產品在家用環境、影院環境等場景取得良好應用示范效果。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過560萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。
高世代產線用高精度掩膜版技術研究
（1）研究內容。開展掩膜版涂布技術研究，掌握G6及以上產線高精度光阻涂布技術，實現該尺寸領域光阻涂布技術自主化；開展高精度激光直寫技術研究，掌握高PPI圖形Mura控制技術、多圖形混版Mura控制技術；開展圖形精度測量及校正技術研究，掌握高精度DCM補償技術；開展高精度缺陷修復技術研究，掌握高PPI圖形、復雜圖形修復技術。
（2）考核指標。突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，形成產品2-3個，研究成果應用于G6及以上高精度二元及半色調掩膜版的生產制造。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過560萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。
AMOLED用磷光發光材料國產化關鍵技術研究
（1）研究內容。開展OLED發光材料有機分子發光過程激發態調控、分子設計、發光器件優化等方面研究，完成OLED有機發光材料紅、綠、藍發光和主體材料結構研制并滿足工業應用，形成具有完全自主知識產權的有機磷光發光材料的國產化供應。
（2）考核指標。突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，形成產品2~3個，發光材料應用于OLED生產廠家。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過760萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。
大幅寬PMMA偏光片基膜關鍵技術研究
（1）研究內容。開展大寬幅PMMA基膜制備關鍵技術研究，掌握光學樹脂共擠技術和共擠特種配方，克服PMMA材料脆性缺陷導致的邊部破膜問題；掌握寬幅雙向同步光學拉伸技術，在2.5米大寬幅、超薄、超高運行機速情形下，位相差等光學性能均一。
（2）考核指標。研制具有低透濕性、高透過率、位相差均一的大寬幅偏光片基膜，突破關鍵技術3項，申請或授權發明專利3件以上，形成產品2~3個，產品支撐新型顯示光學薄膜核心膜材國產化制備。在大寬幅偏光片生產廠家取得應用。
（3）有關說明。擬支持1項，支持專項資金不超過560萬元；企業牽頭申報，鼓勵產學研聯合申報，自籌經費與申請專項資金比例不低于2：1。（來源：四川省科學技術廳）
